泄密半导体技术给中国 相关人员被起诉

韩国三星电子子公司SEMES研发的世界首台超临界半导体清洗设备核心技术被泄密给中国，相关的5名人员被移交审判。

水原地方检察厅防卫事业产业技术犯罪调查科16日在水原地方检察厅召开记者会，指控SEMES违反产业技术保护法和不正当竞争防止法（向国外泄露商业秘密等），宣布逮捕并起诉前研究员A某（47岁）等两人、技术泄密的中国人中介B某、SEMES合作公司CEO C某等4人。 此外，一名SEMES合作公司员工因同样的罪名被不拘留起诉。

A某于2016年从SEMES辞职，2019年成立另一家公司。2021年6月，合作公司CEO C某非法获取SEMES成功研发并量产的超临界半导体清洗设备核心图纸，通过中介B某泄露给中国。

据调查，C某将图纸交给A某，获得了38亿韩元的投资和8亿韩元的押金，B某充当技术泄密的桥梁，收受了约16亿韩元的现金。

半导体是精密元件，即便是少量的灰尘也会导致缺陷，韩国开发的超临界清洗设备是在尽可能不损坏半导体基板的情况下进行清洗，使用了二氧化碳，是世界最早开发出来的新技术。

SEMES投入约350亿韩元的研究资金来开发这种超临界技术。

检方解释说，考虑到技术泄露导致至少同等数额的直接损失，以及主要客户的订单因技术竞争力下降而减少，每年有超400亿韩元的损失风险。

去年9月，A某等人向一家中国私营半导体公司提供10台超临界清洗设备（每台238亿韩元）后，签署了一项转让技术的项目协议，但由于起诉而未能实际交付设备。

A某还与SEMES的一名前研究员串通，2021年5～7月，SEMES成功研制出继日本之后全球第二台磷酸清洗设备，也被自己公司的职员将该技术泄露。

磷酸清洗设备是使用磷酸化学品，将表面残留二氧化硅的半导体晶圆一张一张进行清洗的设备。

A某于去年5月利用SEMES拥有的另一项半导体清洗设备技术制造出14台相同规格的设备，然后将图纸等制造技术和设备泄露给中国，目前正在接受审理。

据调查，A某等人从2019年12月至2022年7月共出口了20台清洁设备，靠此类技术泄密，获得了约1193亿韩元的利润。

检察机关为了追回被告人的犯罪所得，没收了A先生公司的6台湿洗设备，并采取扣押存款财权和房地产等措施保全了价值535亿韩元的财产。

检察官朴振成表示，“我们将继续严厉打击损害良好技术开发环境和公平市场竞争秩序的工业技术和商业秘密侵权行为。”“为防止再次发生，我们将彻底追查犯罪收入并将其追回。”

记者李如文报导